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低介電常數(shù)聚酰亞胺薄膜的改性設(shè)計(jì)與 5G 高頻通信基板應(yīng)用適配性分析

日期:2026-01-01 02:55
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摘要:低介電常數(shù)聚酰亞胺薄膜的改性設(shè)計(jì)與 5G 高頻通信基板應(yīng)用適配性分析

低介電常數(shù)聚酰亞胺薄膜的改性設(shè)計(jì)與 5G 高頻通信基板應(yīng)用適配性分析

需要增透減反技術(shù)可以聯(lián)系我們上海工廠18917106313

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

摘要

5G 高頻通信(尤其毫米波頻段)對基板材料的介電常數(shù)(Dk)、介損(Df)提出嚴(yán)苛要求(Dk≤2.8,Df≤0.005)。本文針對聚酰亞胺(PI)薄膜的高介電短板,從分子結(jié)構(gòu)改性、多孔化設(shè)計(jì)、納米復(fù)合三個(gè)方向展開改性研究,通過引入氟代基團(tuán)、調(diào)控多孔結(jié)構(gòu)、復(fù)合低介電納米粒子,實(shí)現(xiàn) Dk 低至 2.3、Df≤0.003 的性能突破。適配性分析表明,改性 PI 薄膜在高頻信號(hào)衰減率、熱穩(wěn)定性(Tg≥280℃)、力學(xué)強(qiáng)度(拉伸強(qiáng)度≥80MPa)上均滿足 5G 基板需求,為高頻通信設(shè)備的小型化、高速化提供材料支撐。

引言

當(dāng) 5G 信號(hào)以毫米波頻段實(shí)現(xiàn) 毫秒級(jí)響應(yīng),通信基板的介電性能成為信號(hào)傳輸?shù)?nbsp;關(guān)鍵瓶頸”—— 傳統(tǒng) PI 薄膜(Dk≈3.2-3.5,Df≈0.008)在高頻下會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重信號(hào)衰減,導(dǎo)致數(shù)據(jù)傳輸速率下降、能耗增加。因此,通過改性設(shè)計(jì)降低 PI 的介電常數(shù)與介損,同時(shí)保留其耐高溫、抗腐蝕的固有優(yōu)勢,成為適配 5G 基板的核心技術(shù)方向。本文聚焦三類主流改性路徑,系統(tǒng)分析其改性機(jī)制與應(yīng)用適配性。

低介電 PI 薄膜的改性設(shè)計(jì)

2.1 分子結(jié)構(gòu)改性:氟代基團(tuán)的精準(zhǔn)引入

 PI 分子鏈中引入三氟甲基-CF?)或全氟烷基,利用氟原子高電負(fù)性降低分子極化率(介電常數(shù)與分子極化率正相關(guān))。實(shí)驗(yàn)表明,將含氟二胺(如 2,2'- 雙三氟甲基 - 4,4'- 二氨基聯(lián)苯)替代傳統(tǒng)二胺單體,PI 薄膜 Dk 可從 3.4 降至 2.5-2.8,Df 降至 0.004-0.006。需控制氟含量在 30%-40%:過低無法顯著降介,過高則會(huì)降低分子鏈間作用力,導(dǎo)致拉伸強(qiáng)度下降至 60MPa 以下(低于基板要求的 70MPa)。

2.2 多孔化設(shè)計(jì):空氣相的可控引入

空氣介電常數(shù)(Dk≈1)遠(yuǎn)低于 PI,通過模板法(如納米球模板)在 PI 薄膜中構(gòu)建孔徑 50-200nm 的封閉孔洞,孔洞率控制在 15%-25% 時(shí),Dk 可降至 2.3-2.5,且拉伸強(qiáng)度保留≥80MPa(傳統(tǒng) PI 為 100MPa)。關(guān)鍵技術(shù)在于避免孔洞團(tuán)聚:采用超聲分散 梯度升溫固化工藝,可使孔洞分布均勻度提升至 90% 以上,避免高頻下因孔洞不均導(dǎo)致的局部信號(hào)畸變。

2.3 納米復(fù)合改性:低介電粒子的協(xié)同增效

復(fù)合低介電納米粒子(如 SiO?、石墨烯量子點(diǎn)),通過粒子與 PI 基體的界面作用抑制分子極化。例如,添加 5wt% 表面改性 SiO?(粒徑 20nm),PI 薄膜 Dk 降至 2.6,Df 降至 0.003,同時(shí)熱導(dǎo)率從 0.15W/(m?K) 提升至 0.22W/(m?K),解決 5G 基板高頻工作時(shí)的散熱難題。需注意粒子分散性:未改性粒子易團(tuán)聚,反而導(dǎo)致介損升高。

3 5G 高頻通信基板應(yīng)用適配性分析

5G 基板需同時(shí)滿足 高頻低損耗、高溫耐老化、力學(xué)抗彎曲” 三大需求:

1.信號(hào)傳輸適配性:改性 PIDk=2.3-2.8,Df≤0.005)在 28GHz 頻段的信號(hào)衰減率≤0.3dB/cm,較傳統(tǒng) PI0.5dB/cm)降低 40%,符合基站天線基板、高速 PCB 的傳輸要求;

2.熱穩(wěn)定性適配性:改性 PI 的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)均≥280℃,在基板長期工作溫度(-40℃-120℃)下,介電性能衰減率≤3%,避免高溫導(dǎo)致的信號(hào)失真;

3.工藝適配性:薄膜厚度均勻度(偏差≤5%)、與銅箔的剝離強(qiáng)度(≥1.5N/mm)均滿足 PCB 層壓工藝要求,可直接替代傳統(tǒng)基板材料。

結(jié)論

1.分子氟代、多孔化、納米復(fù)合三種改性路徑,可有效將 PI 薄膜 Dk 降至 2.3-2.8,Df≤0.005,兼顧熱穩(wěn)定性與力學(xué)性能;

2.改性 PI 薄膜在高頻信號(hào)衰減、高溫可靠性、工藝兼容性上完全適配 5G 通信基板需求,尤其適用于毫米波頻段設(shè)備;

3.未來需進(jìn)一步優(yōu)化改性工藝成本(如降低氟代單體價(jià)格),推動(dòng)規(guī)模化應(yīng)用。

問答環(huán)節(jié)

1. 行業(yè)研發(fā)視角:研發(fā)低介電 PI 時(shí),如何平衡 降介效果” 與 綜合性能?

答:核心在于精準(zhǔn)調(diào)控改性程度:分子氟代時(shí),通過引入剛性氟代基團(tuán)(如三氟甲基聯(lián)苯結(jié)構(gòu)),在降介的同時(shí)保留分子鏈剛性,避免力學(xué)強(qiáng)度下降;多孔化設(shè)計(jì)中,采用 封閉孔洞 梯度孔徑” 策略,孔洞率控制在 20% 左右(超過 25% 會(huì)導(dǎo)致耐擊穿性下降);納米復(fù)合時(shí),選擇與 PI 基體折射率接近的粒子(如 SiO?,折射率 1.46PI 約 1.6),減少界面極化損耗。此外,需通過正交實(shí)驗(yàn)篩選*優(yōu)參數(shù),例如氟代單體含量 35%+SiO?添加量 3wt%,可實(shí)現(xiàn) Dk=2.5、拉伸強(qiáng)度 85MPa、Tg=290℃的平衡性能。

2. 應(yīng)用研究視角:低介電 PI 在 5G 基板量產(chǎn)中,如何解決 工藝兼容性” 問題?

答:主要面臨兩大難題:一是薄膜厚度均勻性,量產(chǎn)時(shí)需采用狹縫擠出 靜電吸附” 流延工藝,控制膜厚偏差≤3%(實(shí)驗(yàn)室為 5%),避免基板層壓時(shí)出現(xiàn)氣泡;二是與金屬布線的附著力,需在 PI 表面進(jìn)行等離子體處理(引入羥基、羧基),使與銅箔的剝離強(qiáng)度從 1.2N/mm 提升至 1.8N/mm,滿足 PCB 布線時(shí)的耐焊接熱要求(260℃/10s 無分層)。此外,需優(yōu)化固化工藝,將亞胺化時(shí)間從實(shí)驗(yàn)室的 4h 縮短至量產(chǎn)的 1.5h,降低生產(chǎn)成本。

3. 客戶視角:終端設(shè)備廠商選擇低介電 PI 基板時(shí),除介電參數(shù)外,還關(guān)注哪些核心指標(biāo)?

答:首先是成本可控性,改性 PI 價(jià)格若高于傳統(tǒng) PI 50% 以上,會(huì)增加設(shè)備成本(如基站基板用量大,成本敏感度高),需廠商提供 改性成本 性能” 性價(jià)比方案;其次是供貨穩(wěn)定性,需確認(rèn)改性材料的月產(chǎn)能(至少 50 噸以上),避免因原材料短缺導(dǎo)致生產(chǎn)停滯;*后是可靠性數(shù)據(jù),需提供 1000h 高溫高濕(85℃/85% RH)測試后的性能衰減報(bào)告(介損升高≤0.001,拉伸強(qiáng)度保留≥90%),確保設(shè)備長期運(yùn)行穩(wěn)定。

結(jié)尾

從小區(qū)基站的信號(hào)塔到手機(jī)里的高速 PCB,5G 的 ” 從來不是單一技術(shù)的突破,而是像低介電 PI 這樣的 隱形材料” 在幕后的支撐。當(dāng)我們刷著 4K 直播、用著智能家電時(shí),或許不會(huì)想到:基板里那層薄至 25μm 的 PI 薄膜,正以 0.003 的介損、280℃的耐熱性,默默保障著每一次信號(hào)的順暢傳輸。未來隨著 6G 向太赫茲頻段邁進(jìn),低介電材料的性能還將面臨更高挑戰(zhàn),但當(dāng)下每一次 Dk 的 0.1 下降、每一次成本的 5% 降低,都是在為 更快、更穩(wěn)、更普惠” 的通信時(shí)代鋪路 —— 畢竟,再先進(jìn)的通信技術(shù),*終都要落到 讓普通人用得上、用得好” 的實(shí)處。

關(guān)于我們

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件的高科技企業(yè),公司2005年成立在上海閔行零號(hào)灣創(chuàng)業(yè)園區(qū),專業(yè)的光電鍍膜公司,技術(shù)背景依托中國科學(xué)院,卷柔產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡,平板顯示,安防監(jiān)控等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn),為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

    采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系,能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、光學(xué)科研,紅外制導(dǎo)、面部識(shí)別、VR/AR應(yīng)用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框,工業(yè)燈具照明,廣告機(jī),點(diǎn)餐機(jī),電子白板,安防監(jiān)控等。
    卷柔新技術(shù)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的全自動(dòng)生產(chǎn)線【sol-gel溶膠凝膠法鍍膜線】,這條生產(chǎn)線能夠生產(chǎn)全球先進(jìn)的減反射玻璃。鍍膜版面可達(dá)到2440*3660mm,玻璃厚度從0.3mm到12mm都可以,另外針對PC,PMMA方面的增透膜也具有量產(chǎn)生產(chǎn)能力。ARcoating減反膜基本接近無色,色彩還原性好,并且可以避免了磁控濺射的缺點(diǎn),鍍完增透膜后玻璃可以做熱彎處理和鋼化處理以及DIP打印處理。這個(gè)難度和具有很好的應(yīng)用性,新意突出,實(shí)用性突出,濕法鍍膜在價(jià)格方面也均優(yōu)于真空磁控的干法。


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    我們的愿景:卷柔讓光學(xué)更具價(jià)值!
    我們的使命:有光的地方就有卷柔新技術(shù)!
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